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Hellma材料CaF2晶体193nm
| 产品型号: |
193nm |
| 品 牌: |
Hellma |
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| 所 在 地: |
北京顺义区 |
| 更新日期: |
2025-12-23 |
| | 品牌:Hellma | | 型号:193nm | | 加工定制:是 | |
| | 材质:晶体 | | 颜色:白色 | | 耐温:20℃ ℃ | |
| | 适用领域:半导体微光刻 | | 颜色:白色 | | 耐温:20℃ ℃ | |
Hellma材料CaF2晶体
氟化钙(CaF2Hellma-Materials的一种经过验证的光学材料,具有卓越的性能:
宽频传输:在紫外、可见性和红外频段的透射率极佳。
低色散:*大限度地减少色差。
对电离辐射的高抵抗:可用于太空。
低非线性折射率:非常适合高功率激光应用。
大直径:对于要求较高的应用,*大可达440毫米。
由于起始材料纯度高:我们种植大型高纯度单晶氟化钙。
多亏了这些特性,我们的CaF2晶体是下面行业的选择:
半导体行业:微光刻光学技术以实现*高精度。
真空技术:坚固的真空窗适合恶劣环境。
Hellma氟化钙的优点
特色 价值 优势
低折射率 nd=1.43384 非常适合高功率激光应用
低光谱色散 𝜈d=95.23 小化色差
卓越的激光电阻,适用于准分子激光光学 193海里,248海里 激光元件的长使用寿命
从深紫外到红外范围的高宽频传输 130nm到8μm 紫外、可见光和红外波段的透射性能极佳
半成品可用尺寸 大可达440毫米 适用于要求高的应用
Hellma-Materials半成品的优势:
材料尺寸的灵活性:为您的具体需求量身定制解决方案。
优化性能:实现*高的光学精度和效率。
可靠性:信任经过验证且使用寿命长的材料。
质量控制:所有测量技术均在内部进行,包括激光实验室。
核心光学特性
高宽带透射率
覆盖深紫外(130nm)至红外(8μm)波段,适用于全光谱光学系统。
例如:在准分子激光光学器件(157nm、193nm、248nm)中,HellmaCaF₂的透射率远超传统材料,成为行业标准。
低折射率与低色散
折射率(nd)为1.43384,光谱色散(vd)达95.23,显著减少光学畸变,提升成像精度。
对比:普通光学玻璃的色散值通常低于60,HellmaCaF₂在色散控制上具有绝对优势。
激光耐久性
在高能激光环境下(如193nm准分子激光),HellmaCaF₂可承受数亿次脉冲照射而不发生性能衰减,寿命是普通材料的10倍以上。
环境适应性
直径可达420mm的大尺寸晶体,满足大型光学系统需求。
具备高能粒子辐射耐受性,适用于太空探测等极端环境。