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  • Hellma材料CaF2晶体193nm

    产品型号: 193nm
    品  牌: Hellma
    • ≧1 只
      ¥2240.00
    所 在 地: 北京顺义区
    更新日期: 2025-12-23
    详细信息
     品牌:Hellma  型号:193nm  加工定制:是  
     材质:晶体  颜色:白色  耐温:20℃ ℃ 
     适用领域:半导体微光刻  颜色:白色  耐温:20℃ ℃ 
      Hellma材料CaF2晶体
      氟化钙(CaF2Hellma-Materials的一种经过验证的光学材料,具有卓越的性能:
      宽频传输:在紫外、可见性和红外频段的透射率极佳。
      低色散:*大限度地减少色差。
      对电离辐射的高抵抗:可用于太空。
      低非线性折射率:非常适合高功率激光应用。
      大直径:对于要求较高的应用,*大可达440毫米。
      由于起始材料纯度高:我们种植大型高纯度单晶氟化钙。
      多亏了这些特性,我们的CaF2晶体是下面行业的选择:
      半导体行业:微光刻光学技术以实现*高精度。
      真空技术:坚固的真空窗适合恶劣环境。

      Hellma氟化钙的优点
      特色    价值    优势
      低折射率    nd=1.43384    非常适合高功率激光应用
      低光谱色散    𝜈d=95.23    小化色差
      卓越的激光电阻,适用于准分子激光光学    193海里,248海里    激光元件的长使用寿命
      从深紫外到红外范围的高宽频传输    130nm到8μm    紫外、可见光和红外波段的透射性能极佳
      半成品可用尺寸    大可达440毫米    适用于要求高的应用
      Hellma-Materials半成品的优势
      材料尺寸的灵活性:为您的具体需求量身定制解决方案。
      优化性能:实现*高的光学精度和效率。
      可靠性:信任经过验证且使用寿命长的材料。
      质量控制:所有测量技术均在内部进行,包括激光实验室。

      核心光学特性
      高宽带透射率
      覆盖深紫外(130nm)至红外(8μm)波段,适用于全光谱光学系统。
      例如:在准分子激光光学器件(157nm、193nm、248nm)中,HellmaCaF₂的透射率远超传统材料,成为行业标准。
      低折射率与低色散
      折射率(nd)为1.43384,光谱色散(vd)达95.23,显著减少光学畸变,提升成像精度。
      对比:普通光学玻璃的色散值通常低于60,HellmaCaF₂在色散控制上具有绝对优势。
      激光耐久性
      在高能激光环境下(如193nm准分子激光),HellmaCaF₂可承受数亿次脉冲照射而不发生性能衰减,寿命是普通材料的10倍以上。
      环境适应性
      直径可达420mm的大尺寸晶体,满足大型光学系统需求。
      具备高能粒子辐射耐受性,适用于太空探测等极端环境。
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